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氧化铌靶材的产品介绍

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氧化铌靶材的产品介绍

发布日期:2018-03-06 作者: 点击:

  【氧化铌靶材】合金靶材溅射靶材使用指南及注意事项

  溅射准备

  保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。

  短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。  为保持镀膜的成分特性,溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥,溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出,达到工艺所要求的真空度。

氧化铌靶材.jpg

  暗区屏蔽罩,腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物,再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后, 再用酒精,丙酮和去离子水清洗,同时建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。

  高展金属生产的靶材采用真空密封塑料袋包装,

  内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。注意:使用靶材时请配带干净而且不会起绒的保护手套,绝对避免用手直接接触靶材


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